超純水處理流程

滿足超純水過程對原水的要求，必須對原水進行處理，預處理-兩級反滲透，主要對象是水中的懸浮物、微生物、膠體、有機物、重金屬、遊離狀態的餘氯、溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等去除，電導率(包括C2)：<40μS/m，氧化矽(SiO2)：<1 mg/L，鐵、錳、硫化物；0.01mg/L，總氯(以C12計)：0.02mg/L，總硬度(以CaCO3計)：< 1.0 mg/1，溶解的有機物(TOC,以C計)：<0.5mg/L，運行pH值範圍運行溫度：5-45℃，進水壓力：7bar

超純水的工作原理

係統具有去離子室的基離子室包含離子交換樹脂,填充在陽離子交換膜和陰離子交換膜之有離通過膜,而水被阻擋。當流體進入充滿樹脂的稀釋室時離子被混合床樹料流中清除。在施加件堆棧上的強直流場的影響下,帶電粒子從樹脂中拉出並被拉向相反電荷的電極。以這種方些帶電的強離子物質被連續去除並轉移到相鄰的濃縮室離子向膜移極。它們有相同荷的樹脂的連續膜阻擋。隨著強離去除,流的電導率變得非常低。施加的強大勢在樹脂珠粒氫氧根離些充當離子交換樹脂的連續再生些再生樹離中性或弱電離的水性物如二氧化碳或二氧化離之後是通流電和離子交換膜去除。

最近幾年ED去離子在各個工業領域都越來越受重視,許多工業係統開始采用電去離子作為其水處理係統的更新換代技術,如電力工業、製藥工業、微電子工業、電鍍與金屬表麵處理等

電力工業據推算電力行業水處理單元的操作費用約占電力成本的10%,而用電去離子代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由美元降至1.75美元。

製藥工業雖然藥用水的特點是並不要求很高的去離子程度,但電去離子係統具有同時去鹽和控製微生物指標的特點。

電子工業電子工業對水質的要求極高,水電阻率要穩定的大於18MQ而ED出水一般在15-17M左右,因此在電子級水的生產過程多采用ED+拋光樹脂係統,即在EDI之後加離子交換,此工程雖然仍需離子交換,但由於EDI已除去了大部分離子,拋光樹脂幾乎不用再生,因此水處理費用仍然很低

電鍵與金屬表麵處理電去離子可用於電鍍廢水處理可以使水重複使用並回收重金屬離子。

其他領域ED去離子水設備在食品工業、化學工業等都有很廣泛的應用。

 

適用場景

1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產、電子管陰極塗數碳酸鹽配液、顯像管和陰極射線管生產配料用純水。

2.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

3.液晶顯示器的生產、屏麵需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於藥液配

4.集成電路生產中高純水清洗矽片x半導體材料、器件、印剛電路板和集成電路。商子顯示屏。

5.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

6.高品質顯像管、螢光粉生產、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。

7.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料。

8.實驗室和中試車間汽車、家電表麵拋光處理、光電產品、其他高科技精微產品。

9.生物醫藥、醫藥化工、生物製劑、臨床醫學。